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N2 Purge

독자적인 가동 노즐 채택으로 안정된 N2 Purge 실현

■ 노즐 상승 타이밍을 컨트롤 

•  키네매틱 핀과의 간섭 없음
• 일반 FOUP과 N2 Purge FOUP 동시 운용 가능

■노즐 승강 압력 조절 가능

■노즐 팁 변경 가능

■ 노즐 승강 위치 확인(센서)

■ 기존 Standard SELOP8을 N2 Purge LP로 업그레이드 가능

■ Stage상에서의 FOUP N2 Purge 

• 4 purge port타입 지원

■깨끗한 N2 공급 

• 필터를 Port 직전에 배치하여 FOUP에 파티클 침입 방지
•  FOUP의 주입구에 있는 그로멧에 노즐을 압착 

■유량계에 의한 N2 가스 유량 감시가능 

■ MFC에 의한 N2 가스 유량 컨트롤이 가능

200mm/300mm Wafer Auto Switching 

기존 LoadPort에 아답터를 장착하여 200mm LoadPort로 사용가능

■ 300 / 200mm Wafer Mapping 가능 

■Wafer Protrusion(Wafer 돌출) 감지기능

■Wafer 이동시 안전을 위한 Adapter Door Close 기능 탑재